伊利諾伊理工學院(Illinois Institute of Technology-Chicago)全美大學排名105名
建校時間:1890年
院校性質:私立
本科在校學生:2216人
語言要求:1.托福550分或新托福80分 2. SAT2:1318分或ACT2:1040分
入學申請費:30美金
TOEFL成績能否代替SAT或ACT:不可以
主要申請專業(yè)(參考):工程、科學、建筑、設計、心理學、公共管理、通信技術、商業(yè)等
國際學生學費:24113美金
國際學生食宿費:8049美金
申請截止時間:5月15日
師生人數(shù)比例:13:1
所在州:伊利諾伊州
伊利諾伊斯理工大學Illinois Institute of Technology(簡稱IIT)作為一所私立的天主教大學在全美國排名前100名,該學校的培訓項目更是名列前茅。伊利諾伊斯理工大學是一所具有博士授予權的私立大學,排名美國大學前100名。它建立于1890年,提供工程,科學,建筑,設計,以及心理學,公共管理,通信技術,商業(yè),以及法學等綜合學科。伊利諾伊斯理工大學也是獨立技術大學聯(lián)盟享有崇高聲望的成員之一。學校五大特點如下:
在商業(yè)、研究和學術領域具有享譽世界的聲望磁介質錄音的發(fā)明和發(fā)展,蜂窩通信的無限技術運用,Pop Tarts臭氧層空洞的確認,為NASA設計的John Madden;John Hancock中心,芝加哥O′Hare機場聯(lián)合航空公司侯機樓,Lake Point大廈,新Solder Hold球場等設計。